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真空电镀是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，等冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法，而这其中常用的金属就是铝等低熔点金属。
它可以在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，从而减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），还可以提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。
它通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或者低于10-2Pa，也是对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则它的要求压力会更低（10-5Pa）。
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